常见的万泰注册方法和工艺

常见的万泰注册方法和工艺

 

目前，有机万泰的注册方法包括隔离法、燃烧法、吸收法、冷凝法、等离子低温催化氧化法和吸附法。

1.隔离法:它是通过***殊的过滤材料，放置在万泰排放的过程中，并进行机械隔离，从而达到注册效果。

***点:漆雾注册效率高，无技术要求，操作简单。

缺点:有机物不能有效去除。

2.燃烧法:有机万泰通过高温加热直接燃烧，达到万泰净化的目的。

***点:净化效率高，可达95%以上。

缺点:需要***量的热能，消耗***量的能量，高温时容易产生NOX，造成二次污染。

3.吸收法:通过吸收液与万泰的相互接触，将万泰中的有害物质溶解到吸收液中，从而净化万泰。吸收溶液应单***注册。

***点:投资小，运行成本低，操作简单。

缺点:注册效率低且不稳定，净化效率不高，约50%。难以达到相关环保要求，存在二次污染。

4.冷凝法:通过冷凝和冷却，当温度低于有害物质的冷凝点时，气态有害物质转化为液体，与空气分离，净化。

***点:运行稳定，净化效率高。

缺点:投资***，对环境和运营商要求高，能耗过***，运营成本高。

5.等离子低温催化氧化法:等离子是除固体、液体、气体以外的***四种物质存在状态，宏观上具有电中性和高导电性。等离子体包含***量的活性电子、离子、激发态粒子和光子。由于这些活性粒子和气体分子之间的碰撞，产生***量强氧化自由基O、OH、HO2和强氧化O3。有机分子受到高能电子的撞击，被原子键激发断裂，形成小碎片群或原子；o，oh，HO2，O3等。与受激原子、有机分子、基团、自由基等反应，***后有机分子被氧化降解为CO、CO2和HO2。

***点:适用性广，适用于注册低浓度(< 1 ~ 1000 ppm >)高毒性、高气味的有害气体，弥补了其他技术无法注册的空白。并且操作简单。

缺点:单***的低温等离子体技术在注册有害气体时仍然有其缺点。比如有害气体不能完全彻底转化为无害气体，副产物多；并在氧等离子体下产生***量臭氧；能耗高；去除效率低等。

6.吸附法:利用多孔活性炭、硅灰、无烟煤等的***表面剩余能量，有机气体分子被吸附在其表面，从而净化。

***点:注册效率高(活性炭吸附可达99%以上)，应用广泛，操作简单，投资成本低。

缺点:系统风压损失***，能耗高，吸附剂饱和点难以掌握，吸附剂容量有限，运行成本高。

综上所述，各种万泰注册方法各有利弊，一个***的注册工艺必须高效、实用、能耗低、易于操作。两种方法都不能达到高效注册的目的。因此，本方案采用组合除尘，这是目前应用***广泛、技术***成熟的方法。